亚汇网昨日报道,ASML在第三届中国国际进口博览会上展示了先进的DUV光刻机。据了解,该产品可生产7nm及以上制程芯片。DUV:深紫外线(DeepUltravioletLithography),EUV:极深紫外线(ExtremeUltravioletLithography)。从制程范围来看,DUV基本上只能做到25nm,Intel凭借双工作台的模式做到了10nm,但是却无法达到10nm以下。只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造,并且还可以向5nm、3nm继续延伸。此外,ASML在本次展会上也带来了其整体光刻解决方案,包括先进控制能力的光刻机台计算光刻和测量通过建模、仿真、分析等技术,让边缘定位精度不断提高。沈波表示,ASML最早一台机器是在1988年进入中国的。目前中国的700多台装机涵盖了ASML公司绝大部分类型产品。且光刻机并非存在“新旧更迭”现象,不同的集成电路的需求受应用场景影响而导致制程量级并不相同。目前80、90年代的产品现在市场上仍然会有很多需求,且7纳米、5纳米、3纳米芯片的数量在整个芯片供应链中大概只占10%多一点。但对于现在的物联网、汽车电子、轨道交通、超高压输电等“新基建”来说,仍是需要大量“成熟制程”的芯片。沈波还表示,ASML在中国也建立了自己的培训中心,培养光刻行业人才,在深圳和北京成了两家技术开发中心,做计算光刻、量测等开发。对于网友最关心的EUV光刻机出口许可方面,他表示:ASML必须要在遵守法律法规的前提下进行光刻机出口。但我们对向中国出口光刻机是保持很开放态度的,我们对全球客户都一视同仁,只要是我们能够提供的技术和设备,我们都会全力支持。实际上,2020年第二、第三季度,公司发往中国大陆地区的光刻机台数超过了全球总数的20%。
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